公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光刻(英语:photolithography)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝i光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
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Reticle也称为Mask,翻译做光掩模板或者光罩,曝i光过程中的原始图形的载体,通过曝i光过程,这些图形的信息将被传递到芯片上。制造芯片时用.我们公司做的掩膜版,一般是根据客户的要求做的,客户提供图纸我们加工
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